La carrera china por los semiconductores suma un nuevo capítulo: investigadores de la Universidad de Zhejiang presentaron la primera máquina de litografía por haz de electrones, llamada Xizhi. 
El anuncio es relevante porque, debido a las sanciones de Estados Unidos, China no puede acceder a los equipos más avanzados de ASML, como los escáneres High-NA EUV.
Aunque la Xizhi no sirve para producción en masa, alcanza una precisión impresionante de 0,6 nm, similar a la de las máquinas más modernas de ASML. Su gran limitación está en la velocidad: mientras los escáneres EUV graban patrones de una sola vez en todo el wafer, la litografía electrónica escribe punto por punto, lo que puede tardar horas. Esto la hace útil en laboratorios, para prototipos o incluso con fines militares, pero inviable para fábricas de gran escala.
Más que una máquina en sí, Xizhi simboliza cómo las restricciones aceleraron la inversión china en tecnología propia. Lo que debía frenar al país terminó impulsando el desarrollo doméstico. Aunque no sustituirá al DUV o EUV en producción masiva, le da a China las herramientas y el conocimiento para experimentar con chips de próxima generación y reducir la brecha tecnológica con Occidente.
Por ahora, la industria china depende sobre todo de equipos DUV para sus líneas de producción, pero Xizhi demuestra que la distancia tecnológica se está achicando. El futuro de la microelectrónica se perfila menos monopolizado y más competitivo, donde cada avance redefine el equilibrio de poder en la cadena global de suministro.