EUV nos llevó a 7–2 nm, pero la curva de costos se vuelve insoportable. Una startup de EE. UU., Substrate, apuesta por litografía de rayos X con aceleradores para lograr …
Asml High-Na Euv
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China presentó Xizhi, su primera litografía por haz de electrones con precisión de 0,6 nm, casi al nivel del ASML High-NA EUV. No sirve para producción masiva, pero es ideal …